IES合作开发 22FDX平台的设计参考流程和工艺设计套件
Mentor Graphics公司（纳斯达克代码：MENT）近日宣布，正与 GLOBALFOUNDRIES 展开合作，认证 Mentor RTL 到 GDS 平台（包括 RealTime Designer 物理 RTL 合成解决方案和 Olympus-SoC 布局布线系统）能够完全适用于当前版本的 GLOBALFOUNDRIES 22FDX 平台设计参考流程。此外，Mentor 和 GLOBALFOUNDRIES 还一同合作开发适用于 22FDX 平台的工艺设计套件 (PDK)。该 PDK 支持 Mentor Calibre 平台，涵盖适用于 22FDX 平台的设计规则检查 (DRC)、版图与电路图比较 (LVS) 和金属填充解决方案。这些解决方案可帮助双方客户利用 22FDX 工艺中的性能来解决功耗、性能和电流泄漏，从而优化他们的设计。GLOBALFOUNDRIES 业务开发副总裁 Pankaj Mayor 表示：我们与Mentor Graphics 密切合作，使其产品能够帮助客户落实 22FDX 平台的优势。对Mentor 工具用于实施流程和设计验证的认证，将帮助设计人员实现功耗、性能和成本之间的最佳平衡。在先进工艺的设计流程中，RealTime Designer 可以满足诸多需求，包括更高的容量、更快的运行时间、改进的结果质量 (QoR) 和集成的布局规划功能。尤其对于 22FDX 平台，它支持基于统一功率格式 (UPF) 的多电压设计、多 Vt 优化、电流泄漏和动态功率分析及优化、独特的 RTL 级别布局规划技术，从而改进 QoR 和运行时间。Olympus-SoC 工具能够全面解决我们使用先进工艺时在性能、容量、上市时间、功率和可变性方面遇到的难题。对22FDX的支持包括低功耗功能，例如多电压设计流程、并行多态多模时序和功率优化、正向和反向偏置处理、电网上 DCAP 单元的插入以减少噪音。Mentor Graphics 的 IC 实施部门总经理 Pravin Madhani 表示：我们的客户要设计一些适用于移动、无线、网络和图形产品的最复杂芯片。通过与GLOBALFOUNDRIES 进行协作，我们能够为双方客户提供适用于 22FDX 平台的先进数字实施流程。Calibre nmDRC、Calibre nmLVS 和 Calibre YieldEnhancer 工具提供了可用于22FDX PDK 的验证功能。核心的DRC和LVS验证是由Calibre nmDRC 和 Calibre nmLVS 工具提供。Calibre YieldEnhancer中的SmartFill功能可通过智能自动方式填充设计，提供填充形状的最佳分布和布局，从而帮助设计人员达到平坦度和密度要求，最大程度地减少填充后的时序更改。新版的 22FDX PDK 将为设计人员提供 GLOBALFOUNDRIES 所特有的 DFM 功能。GLOBALFOUNDRIES 提供了业界领先的 DRC+、制造分析和记分 (MAS) 和 Yield Enhancement Services (YES) 设计套件。这些基于 Calibre 平台的产品，可帮助设计团队分析其设计风格在22FDX工艺中对可制造性的影响。DRC+ 方法使用 Calibre Pattern Matching 工具的快速图形匹配功能，从光刻角度识别出有问题的图形，然后使用 Calibre nmDRC 对存在这些图形的区域执行更严格的设计约束。MAS 和 YES 方法有助于降低制造可变性：MAS 采用 Calibre YieldAnalyzer 中的 DFM 记分功能，可在所有层上对 IP 模块和 SoC 进行记分；在 YES 服务中，GLOBALFOUNDRIES 工程师使用 Calibre YieldEnhancer 中的 Layout 修改功能，可修改边缘和导孔（Via）摆放位置，进而提升 Layout 的稳健性。Mentor Graphics 的 Design to Silicon 事业部副总裁 Joseph Sawicki 说道：通过将最先进的 Calibre 分析和验证功能整合到其22FDX 平台中，GLOBALFOUNDRIES 向设计人员提供了其所需的工具，帮助他们提高产品的稳健性。这不仅可确保为工艺流程提供高质量设计，还可确保设计能更加快速地量产。Mentor Graphics 和 GLOBALFOUNDRIES 正携手合作，开发可用于Sign-off的先进寄生电路参数抽取和可靠性验证的 Calibre xACT 和 Calibre PERC 解决方案。