光刻设备被誉为“工业技术皇冠上的明珠”，它是电子产业中最核心的装备。中山新诺科技是一家专门从事于数字化激光光刻设备研发、生产和销售的高端装备制造商。 2009年底将在国际上最早发明无掩模曝光的 技术团队引入国内，2012年获得广东省创新团队的支持。 到2017年9月，新诺科技已完成8个系列光刻设备的研发，累计发、售超过200台数字化曝光设备。多款光刻设备入选“广东省首台套设备”。

在世界范围内越来越重视知识产权的今天，很多企业因为没有独立知识产权而丧失了核心竞争力。新诺科技始终把知识产权作为公司的根本和核心竞争力，掌握了数字化光刻技术的源头，是国内唯一一家拥有光刻技术原始专利并可在世界范围内使用的光刻设备制造商，已将光刻设备出口销往美国、荷兰、新加坡、韩国和台湾等国家和地区。新诺科技在原始专利的基础上，创新出大量自主知识产权：申请专利75项（已授权中国发明17项、实用新型10项、 美国发明3项）；软件著作权7项；企业标准3项。

• 新诺科技的核心技术源自公司CTO梅文辉博士——世界上首位将数字微镜阵列（DMD）技术应用于光刻领域的科学家，被光刻行业誉为“The Father of Maskless”（无掩模光刻之父）。

• 1998~2006年，梅博士在美国球型半导体公司带领团队研究无掩模光刻技术，并围绕这项研究 获得了100多项专利技术，之后梅博士的无掩模光刻专利被国际上数家大公司采用。 

• 2009~2010 年重组美国球形半导体公司，将梅文辉博士主导的研发团队集合在一起，利用加拿大Aiscent Tech公司作为平台，取得LDI发明专利在世界范围内的使用权，将这项技术和团队带回中山新诺科技股份有限公司，重新开始展开研发、生产、销售无掩模光刻设备的业务，并快 速扩展到多个领域的无掩膜光刻的应用之中。

2017年，客户端

累计装机200台 

新诺科技分别开发了适用于高精度电路板、大平板显示、半导体集成电路、集成电路高密度封装、触摸屏、大面积光掩模版、光化学精密加工等领域应用的无掩模光刻设备系列产品。其中已产业化的有：高精密印刷电路板（PCB）数字化光刻（单台面、双台面、全自动连线）设备；激光无掩模双面LDI设备；集成电路芯片高密度/3D封装数字化光刻设备；卷到卷柔性线路板激光直接曝光设备；触摸屏无掩模曝光设备；高精密光掩模和金属掩模激光直写曝光设备；TFT/OLED显示屏数字化光刻设备。国内外的客户已经超过100多家（包括美国，荷兰，新加坡，韩国等发达国家，其中双面数字化光刻设备销售给国际上最大的光刻设备ASML公司的平行公司ASM Pacific）。